電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)是20世紀80年代早期發展起來的商品化的分析技術。這項技術已經應用于幾乎所有分析領域內痕量、微量和常量元素的測定。該技術的優勢包括:

元素覆蓋范圍寬：包括堿金屬、堿土金屬、過渡金屬和其它金屬類金屬、稀土元素、大部分鹵素和一些非金屬元素；

性能好：靈敏度高，背景信號低，檢出限極低；

分析速度快：由于四極桿分析器的掃描速度快，每個樣品全元素測定只需大約4分鐘；

線性范圍寬：一次測量線性范圍能覆蓋9個數量級；

能夠提供同位素的信息。

ICP-MS由于在速度、靈敏度、動態范圍和元素測量范圍中的優勢而處于獨一無二的地位。能夠快速測量高濃度的元素(ppb到ppm級)的特點使其成為AES的可行的替代方法。

同時ICP-MS在許多痕量和超痕量元素測定中超越了石墨爐原子吸收光譜法(GFAAS)的檢出能力(ppt級)，ICP-MS能測量幾乎所有的樣品,并且實現了一次采集完成多元素同時測定，同時提供同位素的信息。

形態分析是ICP-MS發展最快的領域之一，即色譜技術與ICP-MS的聯用。其中ICP-MS作為檢測器測定樣品中元素的化學價態。這些性能有助于實現ICP-MS在所有領域的廣泛應用，而且確立了ICP-MS在痕量金屬檢測技術中的首*要地位。

表 各種原子分析技術比較：                                                                       

質譜圖常見干擾

1、光譜干擾
（1）同量異位離子干擾
來源：兩種不同元素的質量幾乎相同的同位素所造成的干擾。
    如：¹³³In⁺——¹³³Cd^{+
        115}In⁺——¹¹⁵Sn^{+
          40}Ar⁺——⁴⁰Ca⁺
消除：另選測定同位素、采用高分辨質譜儀、計算機軟件校正。

（2）多原子分子離子干擾
來源：在離子的引出過程中，由等離子體中的組分與基體或大氣中的組分相互作用形成的多原子離子所引起的干擾。
    如：¹⁴N₂⁺——²⁸Si^{+
        14}N¹⁶O¹H⁺——³¹P⁺
消除：扣空白校正、反應/碰撞池技術、另選分析同位素。

（3）氧化物和氫氧化物離子干擾
來源：